連續(xù)鍍鎳
在特定的鍍鎳液中加入適量的添加劑﹐能獲得應(yīng)力較大的容易龜裂成微裂紋的鎳層﹐這種鎳層﹐叫做高應(yīng)力鎳。高應(yīng)力鎳是在光亮鎳的表面上再鍍一層1um左右的鎳層。
由于高應(yīng)力鎳的內(nèi)應(yīng)力大﹐所以在它的表面按常規(guī)再鍍0.2~~0.3um的普通鉻層后﹐在鉻層與高應(yīng)力鎳應(yīng)力的相互作用處﹐高應(yīng)力鎳層即產(chǎn)生大量微裂紋﹐并導(dǎo)致鉻層表面也形成均勻的微裂紋。與鎳封一樣﹐鉻層成為微間斷鉻﹐只是由高應(yīng)力得到的是微間斷鉻﹐在腐蝕介質(zhì)的作用下﹐這些裂紋部位殂成無(wú)數(shù)個(gè)微電池﹐使腐蝕電流分散在微裂紋處﹐從而使整個(gè)鍍層的耐蝕性能得到明顯的提高。
連續(xù)鍍鎳
鍍多層鎳是在同一基體上﹐選用不同的鍍液成分及工藝條件﹐獲得二層或三層的鍍鎳層﹐目的是在不增加鎳層厚度或減低鎳層的基礎(chǔ)上﹐增加鎳層的耐蝕能力。
在生產(chǎn)上應(yīng)用較多的多層鎳/鉻組合層休系有
雙層鎳 半光亮鎳/光亮鎳/鉻
三層鎳 半光亮鎳/高硫鎳/光亮鎳/鉻
半光亮鎳/光亮鎳/鎳封/鉻(微孔鉻)
半光亮鎳/光亮鎳/高應(yīng)力鎳/鉻(微裂紋鉻)
鍍鎳溶液的機(jī)理
鍍鎳溶液是用還原劑把溶液中的鎳離子還原沉積在具有催化活性的表面上。化學(xué)鍍鎳可以選用多種還原劑，目前工業(yè)上應(yīng)用普遍的是以次磷酸鈉為還原劑的化學(xué)鍍鎳工藝，其反應(yīng)機(jī)理，普遍被接受的是"原子氫理論"和"氫化物理論"。原子氫理論認(rèn)為，溶液中的Ni2+靠還原劑次磷酸鈉(NaH2P02)放出的原子態(tài)活性氫還原為金屬鎳，而不是H2PO2-與Ni2+直接作用。連續(xù)鍍鎳
連續(xù)鍍鎳
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